实体库 · Landscape 的层
芯片设计全流程 · 10 计算光刻 / 掩模制备
芯片设计全流程 · 10 计算光刻 / 掩模制备:Landscape「芯片设计全流程」图的第 10 层,页面上有 3 张玩家卡;实体库把卡片对应的机构、文件和事件挂在这一层上。
- Landscape 图芯片设计全流程
- 层第 10 层 · 计算光刻 / 掩模制备
- 玩家卡3 张 · 在 Landscape 页面里看这一层 ↗
关系 每条写成一句话:主语 → 宾语,点开看证据
总览图里指向 · 1
- 总览图里的箭头:芯片设计全流程 · 10 计算光刻 / 掩模制备 → 芯片设计全流程 · 11 流片后调试 / 良率分析
证据 1
页面对这一层的判断
这是生成式AI在制造环节最亮眼的故事,也是唯一一个"GPU加速+生成式AI"类别——逆向光刻求解本身用生成式AI做,是区别于普通GPU加速的关键点。2026年的新变化:台积电不再是cuLitho的唯一客户,中国也出现了一家值得关注、但背景需要如实说明的新玩家。
这一层的卡片 3 张 · 按 Landscape 页面上的顺序;箭头后是卡片对应的实体
- NVIDIA cuLitho → NVIDIA 提到 Samsung(三星)
- Siemens EDA Calibre ILT / GPU光栅化 → Siemens(Siemens EDA)
- 东方晶源 PanGen vPWQ → Dongfang Jingyuan(东方晶源)、ASML 诉 XTAL 窃取 Brion 商业机密案